勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。
勻膠機有一個或多個滴膠系統(tǒng),可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大,出現(xiàn)了多點滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度一般在500-1000nm,同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種,并有流量計進行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊功能,去掉晶片正反面多余的光刻膠。
(1)旋轉(zhuǎn)速度
轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大,對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數(shù)據(jù)的。目前轉(zhuǎn)速控制方面有認定標準,如美國NIST標準等。
(2)真空吸附系統(tǒng)
真空泵一般采用無油泵,即通常說的干泵,因為任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,會導致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況,還會讓滴的膠液不慎進入真空管道系統(tǒng)造成*堵塞。有的勻膠機通過聯(lián)動機制,當真空吸附力不夠時不會開始旋轉(zhuǎn)。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道系統(tǒng)。